Астахов Владимир Павлович: Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа

0.00
0 Оценок
0
Отзывов

О книге

В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.

Серия
Лучшая цена:
132 ₽
Наличие в магазинах
Купить на Литрес
132 ₽
Характеристики
Издательство:
-
Год издания:
-
ISBN:
-

Отзывы

0

Чтобы оставить отзыв или проголосовать, необходимо авторизоваться