О книге
Дано описание основных физических явлений при воздействии ускоренных потоков электронов, ионов и газоразрядной плазмы на поверхность обрабатываемых изделий. Рассмотрены ключевые операции изготовления микро- и наноструктур: нанесение тонких пленок в вакууме, вакуумно-плазменное травление и ионная имплантация. Акцентировано внимание на взаимосвязи между характеристиками технологических операций и показателями качества получаемых микро- и наноструктур. Приведены физико-химические модели расчета основных режимов элионной обработки. Для студентов, обучающихся по направлениям «Наноинженерия» и «Электроника и наноэлектроника».
Характеристики
Издательство:
-
Год издания:
-
ISBN:
-
Отзывы
0Чтобы оставить отзыв или проголосовать, необходимо авторизоваться