BOOK
Введение в технологию материалов микроэлектроники. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов
Представлены основные виды эпитаксиальных технологий. Рассмотрено конструктивное оформление и основные параметры наиболее распространенных видов эпитаксиального роста.
Сформулированы требования к эпитаксиальным подложкам и описаны основные этапы их подготовки для эпитаксии. Рассмотрены особенности зародышеобразования в гетерогенных системах. Представлена классификация видов и механизмов эпитаксии. Структурные особенности эпитаксиальных систем классифицируются на основе бикристаллографического подхода, с привлечением понятий о метрическом и симметрийном несоответствии компонентов эпитаксиальной пары. Рассмотрена методика идентификации ориентационных соотношений в гетероэпитаксиальных системах, основные источники упругих напряжений и механизмы их релаксации.
Учебник предназначен для бакалавров, обучающихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнологии и микросистемная техника». Может быть полезен для аспирантов и научных сотрудников, специализирующихся в проблематике эпитаксиальных технологий.
Стоимость в разных магазинах:
Лабиринт
Стоимость: 1992 ₽*
* на сайте партнёра. На нашем - не является публичной офертой?
Прочее:
ISBNS: 978-5-507-45481-5
Издатель: Лань
Publish date: 2023-01-01
Серия: Радиоэлектроника и приборостроение
Жанры: Электротехника. Электроника
Empty